DEPOSIÇÃO DE FILMES DE CARBONO COM TIO2 PELA TÉCNICA DE DEPOSIÇÃO PLD


Authors

  • Lucas Augusto Manfroi Universidade do Vale do Paraíba - UNIVAP/Grupo Nanotecplasma
  • Polyana Alves Radi Instituto Tecnológico de Aeronáutica – ITA/Laboratório de Processamento a Plasma
  • Lúcia Vieira Universidade do Vale do Paraíba - UNIVAP/Grupo Nanotecplasma

DOI:

https://doi.org/10.18066/revistaunivap.v22i40.1182

Abstract

Revestimentos de filmes carbonosos são estudados para reduzir desgaste e aumentar biocompatibilidade, condutividade elétrica ou aumentar a aderência de metais, dentre as diversas técnicas de deposição há a deposição por laser pulsado (PLD) que é uma técnica rápida e eficaz de deposição. O dióxido de titânio (TiO2) é um material cerâmico que apresenta inúmeras possibilidades de aplicação, tais como sua eficiência na destruição e inibição de microrganismos. O objetivo deste trabalho foi o estudo de filmes carbonosos depositados pela técnica PLD sobre a liga de Ti-6Al-4V, é uma liga muito utilizada nas indústrias aeronáutica e aeroespacial. Para a deposição os substratos de liga de titânio foram polidos e aspergidos com carbono e TiO2, sendo sequentemente irradiadas com laser e analisadas as características químicas e morfológicas, além, de testes de atrito e desgaste dos filmes. Em que observamos um significativo aumento da dureza do filme decorrente da presença do TiO2

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Published

2017-02-17

How to Cite

Manfroi, L. A., Radi, P. A., & Vieira, L. (2017). DEPOSIÇÃO DE FILMES DE CARBONO COM TIO2 PELA TÉCNICA DE DEPOSIÇÃO PLD. Revista Univap, 22(40), 556. https://doi.org/10.18066/revistaunivap.v22i40.1182